二、電渡三層鎳高頻電源電鍍?nèi)龑渔囀窃陔婂冸p層鎳之間再鍍一薄層含硫量更高的高硫鎳層。高硫鎳層的含硫量約為0.1%一0.2%,其腐蝕電位在三層中。通過控制三層鎳中各層的含硫量使高硫鎳層與半光亮鎳層間的腐蝕電位差達(dá)到24OmV,高硫鎳層與全光亮鎳層間的腐蝕電位差為80一100mV時,腐蝕一旦發(fā)生,高硫鎳層將取代全光亮鎳層成為腐蝕原電池的陽極而優(yōu)先腐蝕,使腐蝕在高硫鎳層中橫向發(fā)展,從而保證了電鍍?nèi)龑渔嚰词乖诤穸群鼙r仍具有很好的耐蝕性。常用電鍍高硫鎳層的工藝規(guī)范見表雙脈沖電源電鍍?nèi)龑渔囍?,一般半光亮鎳層厚度不?yīng)小于總厚度的高硫鎳層的厚度應(yīng)低于或等于總厚度的10%,全光亮鎳層的厚度應(yīng)不少于總厚度的20%,盡管高硫鎳層與半光亮鎳層和全光亮鎳層間均有很好的結(jié)合力,但若多層電鍍之間,鍍層在空氣中停留時間過長或清洗次數(shù)太多使鍍層表面發(fā)生鈍化,將降低多層鎳間的結(jié)合力,生產(chǎn)中應(yīng)加以注意。