注：本文轉(zhuǎn)載自“含氟氣體與環(huán)境問題”公眾號。

某些工業(yè)生產(chǎn)過程和產(chǎn)品消費會排放ODS。根據(jù)《蒙特利爾議定書》，ODS在世界范圍內(nèi)被終止。這些氣體將氯和溴原子帶到平流層，發(fā)生化學(xué)反應(yīng)破壞臭氧。舉例來說，其中的重要物質(zhì)氟氯碳化物，曾被用在幾乎所有的制冷和空調(diào)系統(tǒng)中，以及被用作滅火劑的哈龍。目前大氣中ODS的含量可以直接通過監(jiān)測空氣樣品而獲知。

        鹵素源氣體消耗ODS 根據(jù)文獻報道，人為活動釋放的及《蒙特利爾議定書》控制的鹵素源氣體被稱為ODS?！睹商乩麪栕h定書》控制所有ODS的生產(chǎn)和消費（見Q15）。僅具有天然來源的鹵素氣體不屬于ODS。ODS及天然鹵素源氣體貢獻了進入平流層的氯和溴，如圖Q7-1所示。氯和溴的總量分別在1993年和1998年出現(xiàn)高峰。高峰出現(xiàn)時間的不同可以解釋為淘汰時間表的差異、排放與生產(chǎn)聯(lián)系的緊密性及各種源氣體的壽命。圖中也展示了2012年總氯和溴的貢獻，突出展示了《蒙特利爾議定書》控制下的減排成就。

        損耗臭氧物質(zhì)（ODS） ODS由特定的工業(yè)使用和消費品生產(chǎn)過程產(chǎn)生，并最終排放到大氣中。ODS的排放量從20世紀(jì)中后期開始大幅增加，到20世紀(jì)80年代末出現(xiàn)峰值，現(xiàn)在又呈現(xiàn)下降趨勢（見圖Q0-1）。大部分ODS到達平流層，在那里轉(zhuǎn)化成含氯或溴的活性氣體破壞臭氧。只含有碳、氯和氟的ODS為氟氯碳化物，簡寫為CFCs。主要的CFCs有CFC-11(CCl3F), CFC-12 (CCl2F2 ), and CFC-113 (CCl2FCClF2 )。氟氯碳化物，以及和甲基氯仿，過去一直是最重要的人為排放的鹵素源氣體。這些以及其他含氯的ODS被應(yīng)用在許多方面，包括制冷、空調(diào)、泡沫、氣霧劑以及金屬元件的清洗等。在《蒙特利爾議定書》的控制下，許多鹵素源氣體的含量在1993和2012年期間下降（見圖Q7-1）。2012年CFC-12的濃度較1993年高2.4%，2000年出現(xiàn)峰值隨后下降（見圖Q16-1）。作為替代CFCs的含氫氯氟烴（HCFCs）在1993和2012年之間顯著增加 (+157.5%)，HCFCs預(yù)期會在2020和2013年之間達到峰值。

        另一類ODS含溴，這其中主要的是哈龍和甲基溴。哈龍主要被用來滅火，廣泛用于保護大型計算機設(shè)備、軍事裝備和民用飛機的發(fā)動機。因此，哈龍在使用過程中直接排放到大氣中。哈龍-1211和哈龍-1301是目前人為活動排放的含量的哈龍。甲基溴主要用作農(nóng)業(yè)領(lǐng)域蟲害控制的熏蒸劑和貨物出口運輸?shù)南緞?，也存在大量的自然源。受《蒙特利爾議定書》影響，從1998年至2012年間，人類活動排放的甲基溴已經(jīng)顯著下降（下降61.8%，見圖Q7-1）。哈龍-1211在2005年達到峰值，隨后持續(xù)下降。然而，自1998年以來，哈龍-1301卻增長了19.9%而且預(yù)期還將繼續(xù)增長（盡管增長很慢），主要原因是持續(xù)不斷的少量排放以及在大氣中有較長的存在期。

        自然界中的氯和溴 有大量的自然氣體的平流層存在一些鹵素氣源。這些鹵素氣源包括(CH3Cl)和甲基溴(CH3Br)，兩者都來源于海洋生態(tài)系統(tǒng)和陸生生態(tài)系統(tǒng)的排放。2012年，自然界排放的這兩類氣體在平流層中中總氯含量為17%，總溴含量為30%（見圖Q7-1）。海洋生態(tài)活動也會向大氣排放一些存在期很短暫的含溴氣體如三溴甲烷(CHBr 3 )，但這些氣體在低空中很多被快速去除了，只有一小部分能到達平流層。據(jù)估計，2012年，這些存在期很短暫的氣體對平流層中對總溴量的貢獻率大約為25%，且不確定性很大。從自然界排放到平流層中的氯和溴的量可被認為相對穩(wěn)定，因此，不會是自上世紀(jì)八十年代以來觀察到的消耗臭氧層的原因。

                                                                             圖Q 7?1 平流層鹵素氣體變化情況

        自然界和人類活動排放的各類含鹵素氣體將氯和溴傳輸?shù)狡搅鲗印Ｏ某粞鯇游镔|(zhì)（ODS）是指受《蒙特利爾議定書》控制的、人類活動排放的物質(zhì)。這些柱形表示1993年和1998年進入平流層的各類含氯和含溴氣體的來源和數(shù)量，以及2012年的情況，也標(biāo)明了氯和溴的總體含量和不同來源的變化情況。大約的數(shù)量主要來源于在對流層中觀察到的每種氣體的情況。 注意到在垂直方向的顯著變化：進入平流層的氯的總量是溴總量的150多倍。人類活動是進入平流層的氯的主要來源，其中CFCs是最主要的含氯氣體。氯化甲基是最主要的自然排放源。1993年至2012年，降解的是CFC-11，和三氯乙烷。，作為CFC的替代品而且已經(jīng)被列入《蒙特利爾議定書》受控物質(zhì)的HCFC，變化雖然小但呈現(xiàn)明顯上升趨勢。對進入平流層的溴，哈龍和甲基溴是最主要的源。自然排放對進入平流層的溴的貢獻遠遠大于對氯的貢獻。1998年至2012年下降的是甲基溴。哈龍-1211和哈龍-1301顯著增長。（這里采用 “兆分之一”的單位來衡量空氣中氣體的相對含量；一兆分之一相當(dāng)于一兆氣體分子中的一分子）

        其他源自人類活動的氯和溴 其他含氯和含溴氣體主要源自人類活動的大氣排放。一般指使用含氯溶劑和工業(yè)化學(xué)品，使用含氯氣體生產(chǎn)紙張和用于飲用水和工業(yè)用水（含游泳池用水）消毒。這些氣體大都壽命期很短暫，因而只有一小部分能到達平流層。這類氣體對平流層中總氯的貢獻率只有3%，在圖Q7-1中已將這類氣體歸類在其他來源中?！睹商乩麪栕h定書》沒有控制這些壽命期短暫的物質(zhì)（VSLS），盡管其中某些濃度（尤其是二氯甲烷CH2Cl2 ）在近年來顯著增加。