污水處理再生用堿陰床再生的特點(diǎn)是什么？ 

 再生用堿陰床再生的特點(diǎn)是什么？
    (1)再生用堿量  陰床再生有兩個特點(diǎn)：一是由于HSi03不像其他離子，雖然對陰樹脂的親合力較低，但從陰樹脂排出時，會發(fā)生聚合。因此必須用NaOH使聚合物溶解，才能將
HSi03從樹脂層洗脫下來。而洗脫這種聚合HSi03的效果與再生用堿量，特別是保護(hù)層的用堿量有關(guān)？二是由于HSi03在整個樹脂層分布較廣，被置換下的速度又比較緩慢，所以需要較長 的再生時間。
    因此，適當(dāng)?shù)脑偕鷦┯昧?，不僅能提高陰樹脂的交換容量，而且除硅效果也有顯著提高。試驗證明：只有NaOH用量達(dá)到一定比耗時，才能達(dá)到比較的除硅效果。用堿量不足，則可能由于除硅不而使陰床出水中HSi03的含量偏高。
    (2)再生液濃度偏高  再生液濃度對陰床的除硅有兩個作用：一是由于強(qiáng)堿性陰離子交換樹脂的活動性總的說來較弱，所 OH電解質(zhì)濃度較高的溶液中，其雙電層易受壓縮，．再生液中的 OH一就很難將陰樹脂上吸附的HSi03置換得很。二是當(dāng)再生液濃度較高時，再生液體積則相對的小，與樹脂接觸時間也短，再生不易充分，這樣也會影響陰床對HSi03的去除，致使 出水中HSi03含量偏高。
    當(dāng)采用較稀的再生濃度(o．2%~02 5%)或兩步再生時，曲于陰離子交換樹脂的雙電層有所擴(kuò)張，OH一就可以較充分地將HSi03置換下來，除硅效果也好。
    (3)再生劑純度低NaOH純度對陰樹脂的再生過程影響較大。工Cl堿中的雜質(zhì)大部分為氯化物和鐵的氧化物。由于強(qiáng)堿陰樹脂對cl一有較大的親合力，所以不宜用含有較多．Cl一的堿來再生。因為ClCl一不僅易于被樹脂吸附，而且不易被洗脫下來。當(dāng)使HSi0較多c1一的堿再生時，會使樹脂的工作交換容量降低，出水HSi03含量偏高。
    鐵的氧化物則會因其在堿中水解而形成沉淀，而污染了陰樹脂。
’  (4)再生液溫度  提高再生堿溫度，可以改善對HSio的再生洗脫，并明顯降低陰床出水中HSi03的漏泄量。因此維持適當(dāng)?shù)脑偕簻囟葘档完幋渤鏊械腍Si03含量有好處。
    但是再生液溫度過高，易使陰離子交換樹脂的交換基團(tuán)分解，影響交換容量和使用壽命。
    實踐證明：再生和洗脫HSi03的溫度為35 -40℃
    (5)陰樹脂被有機(jī)物污染  由于強(qiáng)堿性陰離子交換樹脂的抗污染能力較差，在運(yùn)行中受到腐植酸等有機(jī)物的污染后會影響對HSi03的去除，導(dǎo)致陰床出水中HSi03的含量偏高。
    為了防止有機(jī)物對強(qiáng)堿陰樹脂的污染，應(yīng)采取相應(yīng)的去除有機(jī)物措施。水在人床前先通過預(yù)處理，可除去水中絕大部分有機(jī)物。也可以采用活性炭處理或用加氯分解有機(jī)物等方法。
    (6)Si02在床層中析出  Si02的生成和析出，與再生條件不當(dāng)有關(guān)。一般認(rèn)為，再生劑用量少，再生液濃度高和再生液流速低等，都可能使HSi03以膠體狀從水中析出，沉積在樹
脂層中。
    這是因為：隨著再生過程的進(jìn)行，OH一不斷地被交換到樹脂中去，而再生液中的HSi03越來越多。這樣在再生液向下流動的過程中，由于再生液pH的降低，則可能由于吸附著的
HSi03間的聚合和部分脫水，而形成Si02的高聚物而沉積于樹脂層中。
    防止Si02在床層中的沉積，必須注意再生條件（再生劑用量、濃度、流速和溫度等）o試驗證明：當(dāng)pH <10時，溫度對Si02的洗脫影響不大；當(dāng)pH >10時。，提高溫度，可以明顯地提高對Si02的洗脫效果。
    對于可能產(chǎn)生Si02的陰床，可行較為的反洗，然后采用1% NaOH以較快的流速再生，再采用3% -4% NaOH溶液以較慢的流速再生。