光刻機(jī)(Mask Aligner)又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光體系,光刻體系等,是制造芯片的核心裝備。它采用相似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精密圖形經(jīng)過(guò)光線的曝光印制到硅片上。
使用模版去除晶圓外表的保護(hù)膜。將晶圓浸泡在墮落劑中,失去保護(hù)膜的部分被腐蝕掉后構(gòu)成電路。用純水洗凈殘留在晶圓外表的雜質(zhì)。其間曝光機(jī)就是使用紫外線經(jīng)過(guò)模版去除晶圓外表的保護(hù)膜的設(shè)備。
一片晶圓能夠制作數(shù)十個(gè)集成電路,依據(jù)模版曝光機(jī)分為兩種:模版和晶圓大小相同,模版不動(dòng)。模版和集成電路大小相同,模版隨曝光機(jī)聚集部分移動(dòng)。其間模版隨曝光機(jī)移動(dòng)的方法。
模版相對(duì)曝光機(jī)中心位置不變,一直使用聚集鏡頭中心部分能得到更高的精度。曝光機(jī)是出產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ),世界上只要少數(shù)廠家掌握。因而曝光機(jī)價(jià)格昂貴,通常在 3 千萬(wàn)至 5 億美元。