等離子刻蝕機，又名等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子外表處理儀、等離子清洗體系等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中常見的一種方式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體構成等離子體。
由此發(fā)生的電離氣體和開釋高能電子組成的氣體，從而構成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加快時，會開釋滿足的力氣與外表驅趕力緊緊粘合資料或蝕刻外表。某種程度來講，等離子清洗實質上是等離子體刻蝕的一種較輕微的狀況。
進行干式蝕刻工藝的設備包括反響室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽暇的反響室。氣體被導入并與等離子體進行交流。等離子體在工件外表發(fā)生反響，反響的揮發(fā)性副產物被真空泵抽走。等離子體刻蝕工藝實際上便是一種反響性等離子工藝。
近期的開展是在反響室的內部安裝成擱架方式，這種規(guī)劃的是富有彈性的，用戶能夠移去架子來裝備合適的等離子體的蝕刻辦法：反響性等離子體（RIE），順流等離子體（downstream），直接等離子體（direction plasma）。
