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電鍍基本運(yùn)算

2025年07月17日 10:07:51      來(lái)源:邯鄲市大舜電鍍?cè)O(shè)備有限公司 >> 進(jìn)入該公司展臺(tái)      閱讀量:6

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當(dāng)電流通過(guò)鍍鎳溶液時(shí),在陰極上沉積出金屬鎳,同時(shí)陽(yáng)極上有鎳溶解。那么,通入一定的電量后,在陰極能鍍上多少重量、陽(yáng)極又能溶解多少重量的金屬鎳呢?1834年,木工出身的法拉第通過(guò)大量的實(shí)驗(yàn),總結(jié)出兩條定律,描述這種通入的電量與電極反應(yīng)產(chǎn)物的重量之間的關(guān)系。

 

1 法拉第定律

 

(1)法拉第定律

法拉第定律:電流通過(guò)電解質(zhì)溶液時(shí),在電極上析出或溶解的物質(zhì)的量(M)與通過(guò)的電量(Q)成正比。用公式表示即:

M=CQ(C為比例常數(shù))

運(yùn)用上述公式,只要能夠知道比例常數(shù)C的數(shù)值,就可根據(jù)通過(guò)電鍍槽的電量Q(Q可通過(guò)電流強(qiáng)度I和電鍍時(shí)間t確定,即Q=It),來(lái)計(jì)算電極上有多少物質(zhì)析出或溶解。法拉第通過(guò)進(jìn)一步的試驗(yàn),在下面的定律中告訴我們這個(gè)比例常數(shù)C是如何求得的。

 

(2)法拉第第二定律

法拉第第二定律:在電極上每析出或溶解1克當(dāng)量的任何物質(zhì)所需要的電量都是1法拉第(1法拉第=96500庫(kù)倫=26.8安培·小時(shí))。

對(duì)參加電極反應(yīng)的物質(zhì)來(lái)說(shuō),它的克當(dāng)量就是該物質(zhì)的原子量與它在電極反應(yīng)時(shí)得失的電子數(shù)(或化合價(jià))之比,并以“克”為單位。例如,鎳的原子量是58.7,電極反應(yīng)時(shí)它得失的電子數(shù)都是2(或此時(shí)鎳的化合價(jià)為兩價(jià)),所以1克當(dāng)量的鎳就等于58.7/2=29.35(克)。

因此,鍍鎳時(shí)通入1法拉第(或96500庫(kù)倫或26.8安培·小時(shí))的電量,能析出或溶解29.35克鎳。根據(jù)法拉第定律公式M=CQ,即C=M/Q,比例常數(shù)C的含義是指單位電量所能析出或溶解的物質(zhì)重量,C又叫做電化學(xué)當(dāng)量。

這樣的話,鎳的電化學(xué)當(dāng)量C=M/Q=29.35克/26.8安培·小時(shí)=1.095克/安培·小時(shí)。其它金屬的電化學(xué)當(dāng)量可查看相關(guān)手冊(cè),此處略。

 

知道了電化學(xué)當(dāng)量C的數(shù)值,就可根據(jù)通過(guò)鍍槽的電流強(qiáng)度I和電鍍時(shí)間t,計(jì)算出電極上有多少物質(zhì)析出或溶解。

 

【例題1】在酸性鍍銅溶液中,以80A電流電鍍0.5h,問(wèn)能鍍出多少克銅(假設(shè)陰極只析出銅)?

解:必須注意,在不同的鍍液中,銅的化合價(jià)可能不同。在酸性鍍銅、焦磷酸鹽鍍銅溶液中銅呈兩價(jià),在氰化鍍銅溶液中銅呈一價(jià)。因此,查電化學(xué)當(dāng)量表時(shí)不要搞錯(cuò)。這里是兩價(jià)銅離子在陰極放電還原,查表可知C=1.186克/安培·小時(shí)

又知,I=80A,t=0.5h,將這些數(shù)值代入公式M=CQ=CIt可得:

M=1.186×80×0.5=47.44(克)

答:陰極上能鍍出47.44克銅。

 

2 電流效率

 

然而,在電鍍時(shí),往往通入鍍槽1法拉第的電量,在陰極上卻得不到1克當(dāng)量的金屬鍍層,是不是法拉第定律有誤呢?

當(dāng)然不是。因?yàn)殡婂儠r(shí),陰極上實(shí)際進(jìn)行的反應(yīng)不只是金屬離子放電還原。比如鍍鋅時(shí),陰極上除進(jìn)行鋅離子放電還原(Zn2++2e=Zn)外,同時(shí)還有氫離子放電析出氫氣(2H++2e=H2↑)。通常把這種與主反應(yīng)(如Zn2+的還原)同時(shí)進(jìn)行的反應(yīng)叫做“副反應(yīng)”(如H+的還原)。由于副反應(yīng)的存在,使得用于沉積金屬的電流只是所通過(guò)的總電流的一部分,而其余部分則消耗在副反應(yīng)上了。把電極上所析出的鋅與氫的量合起來(lái)計(jì)算所消耗的電量,仍然是符合法拉第定律的。

 

陽(yáng)極上也是一樣,除了有金屬溶解外,也有副反應(yīng)存在。通常發(fā)生的是OH-放電而析出氧氣:4OH--4e=2H2O+O2↑。在鍍鎳槽中,陽(yáng)極還可能放出氯氣:2Cl--2e=Cl2↑。

 

由于副反應(yīng)的存在,對(duì)鍍層重量來(lái)說(shuō),就存在一個(gè)效率的問(wèn)題,因而提出了電流效率的概念。計(jì)算電流效率的公式如下:

η=M/M×99%

式中η——電流效率(陰極電流效率為ηk,陽(yáng)極電流效率為ηA)(%);

    M——電極上實(shí)際析出或溶解的金屬重量(克);

    M——由總電量換算出的析出或溶解的金屬重量(克)。

由上式可推導(dǎo)出電極上實(shí)際析出或溶解的金屬重量M

M=Mη=CItη

 

【例題2】已知氰化鍍銅中,通過(guò)鍍槽的電流是150A,電鍍時(shí)間為1.5h,陰極電流效率ηk=70%。問(wèn)能鍍出多少克銅?

解:查表得C=2.371可/安培·小時(shí)(注意:此時(shí)銅呈一價(jià))

又知:I=150安培,t=1.5小時(shí),ηk=70%

把上述數(shù)據(jù)代入公式得:

M=CItη=2.371×150×1.5×70%=373.43(克)

答:可鍍出373.43克銅。

 

電流效率是評(píng)定鍍液性能的一項(xiàng)重要指標(biāo)。提高電流效率可加快鍍層沉積速度,減少電能消耗。一般酸性鍍液,如鍍鎳、酸性鍍銅、酸性鍍鋅等,電流效率都接近99%;焦磷酸鹽鍍液的電流效率也較高,一般均大于90%;氰化鍍液的電流效率較低,一般為60~70%;鍍鉻溶液的電流效率更低,一般僅為10~20%。

 

生產(chǎn)中會(huì)發(fā)現(xiàn),在弱酸性鍍液(如酸性鍍鋅、鍍鎳等)中,鍍液的PH值會(huì)隨著電鍍時(shí)間延長(zhǎng)而逐漸升高,而弱堿性鍍液(如焦磷酸鹽鍍銅)中,PH值會(huì)隨著電鍍時(shí)間延長(zhǎng)而逐漸下降。這是什么原因呢?主要是陰、陽(yáng)兩極電流效率的不均衡造成的。在弱酸性鍍液中,陰極電流效率低于陽(yáng)極電流效率,這意味著陰極消耗的H+多于陽(yáng)極消耗的OH-,從而使整個(gè)鍍液的H+含量相對(duì)減少,因此PH值會(huì)逐漸升高。在弱堿性鍍液中,陰極電流效率高于陽(yáng)極電流效率,這意味著陰極消耗的H+少于陽(yáng)極消耗的OH-,使整個(gè)鍍液的H+含量相對(duì)增加,因此PH值會(huì)逐漸下降。

 

3 鍍層厚度和沉積速度的計(jì)算

 

(1)鍍層厚度的計(jì)算

根據(jù)式M=CItη,

另外M=Sdγ,I=DS,

將以上式子合并后可得鍍層厚度的計(jì)算公式:

d=CDktηk×100/60γ

式中:

d——電鍍層厚度(微米);

 C——電化學(xué)當(dāng)量(克/安培·小時(shí));

Dk——陰極電流密度(安培/ 分米2);

t——電鍍時(shí)間(分);

ηk——陰極電流效率(%);

γ——電鍍層金屬密度(克/厘米3)。

式中d實(shí)際是平均厚度,也就是假定鍍上的金屬均勻分布在零件表面。事實(shí)上鍍層的厚度分布是不均勻的,在尖角、邊緣處較厚,超過(guò)平均厚度;凹入處較薄,低于平均厚度。

 

【例題3】在鋅酸鹽鍍鋅中,所采用的電流密度是1安培/ 分米2,時(shí)間為45分鐘,該溶液的電流效率為78%。問(wèn)鍍上的鍍層厚度為多少微米?

解:查表可知鋅的密度γ為7.14克/厘米3,電化學(xué)當(dāng)量C為1.22克/安培·小時(shí),將全部數(shù)據(jù)代入公式可得:

d=CDktηk×100/60γ

=1.22×1×45×78%×100/60×7.14

≈10(微米)

答:鍍上的鍍層厚度約為10微米。

 

另外,因?yàn)闈L鍍的電流密度Dk、實(shí)際受鍍面積S均不能確定,所以目前尚不能確定滾鍍的鍍層平均厚度d,而只能通過(guò)經(jīng)驗(yàn)大致獲得。

 

(2)鍍層沉積速度的計(jì)算

鍍層沉積速度V就是單位時(shí)間內(nèi)所鍍上的鍍層厚度,則V=d/t,代入鍍層厚度計(jì)算公式后得:

V= CDkηk×100/60γ

 

【例題4】在氯化銨-氨三乙酸鍍鋅中,采用的電流密度為1.5安培/ 分米2,電流效率為95%。求這時(shí)的沉積速度。又若鍍35微米鋅層,需要多長(zhǎng)時(shí)間?

解:V= CDkηk×100/60γ

     =1.22×1.5×95%×100/60×7.14

     =0.4(微米/分)

鍍35微米鋅層所需時(shí)間:

t=d/V=35/0.4≈87(分鐘)

答(略)

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