isishape HiperEtch®11S是含氟化物的蝕刻膏，用于在室溫下蝕刻ITO玻璃上的SiO2層，同時可為網(wǎng)版印刷提供的條件。

產(chǎn)品特點
? 有選擇性地在ITO上蝕刻SiO2 ，不會破壞ITO
? 快速蝕刻工藝： 2 - 3nm/s
? 易于清洗，不需要有機洗滌劑
? 沖洗劑的有機和氟化成分低
? 產(chǎn)品操作安全性高：
熒光色 (使用UV光易檢測痕跡)
粘性產(chǎn)品(無泄漏、無飛濺)
? 低成本

特征
粘度：8-25 Pas (23°C, D=25s-1)
顏色: 粉紅（pink）

蝕刻工藝
不同厚度的SiO2 層在室溫下 蝕刻大約 2-5 分鐘，處理時間越長說明線越寬。



isishape HiperEtch®11S是含氟化物的蝕刻膏，用于在室溫下蝕刻ITO玻璃上的SiO2層，同時可為網(wǎng)版印刷提供的條件。

產(chǎn)品特點
? 有選擇性地在ITO上蝕刻SiO2 ，不會破壞ITO
? 快速蝕刻工藝： 2 - 3nm/s
? 易于清洗，不需要有機洗滌劑
? 沖洗劑的有機和氟化成分低
? 產(chǎn)品操作安全性高：
熒光色 (使用UV光易檢測痕跡)
粘性產(chǎn)品(無泄漏、無飛濺)
? 低成本

特征
粘度：8-25 Pas (23°C, D=25s-1)
顏色: 粉紅（pink）

蝕刻工藝
不同厚度的SiO2 層在室溫下 蝕刻大約 2-5 分鐘，處理時間越長說明線越寬。

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